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余承东:国内正在研发EUV设备,现阶段仍依赖DUV

华为余承东:极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发

AI 导读

余承东表示,EUV设备是制造先进芯片的关键,中国目前正在研发,但现阶段国内仍依靠DUV。华为采用系统工程方法和LogicFolding技术,在主处理器无法采用更先进制程时优化整体性能。

来源:IT之家 · ithome.com