上海微电子新一代前道干式光刻机模型亮相进博会

上海微电子（SMEE）在 11 月 5 日开幕的第九届进博会上展示新一代前道干式光刻机通用技术平台模型，采用透明剖视设计呈现光学光路与机电系统布局。该平台适配 I-line、KrF 两类技术路线，核心部件宣称全链条自主可控；报道称国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品相当，多台设备在国内头部逻辑、存储量产线运行，累计支持流片超千万片，设备有效运行率超 92%。