SMEE新一代前道干式光刻机模型亮相进博会

上海微电子（SMEE）在第九届进博会上展出新一代前道干式光刻机通用技术平台模型，以透明剖视设计呈现光学光路与机电系统布局。该平台适配 I-line、KrF 两类技术路线，核心部件宣称实现全链条自主可控。 报道称国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品相当，多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线运行，累计支持流片超千万片，设备有效运行率超 92%。

AI 根据报道生成 · 2 小时前更新

还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。